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具备独创性是集成电路布图设计受保护的前提条件，也是计算机集成电路布图设计专有权行政撤销案件中最常用的撤销理由，可谓集成电路布图设计专有权存活与否的"生死局"。布图设计中的独创性既不同于著作权中的独创性，也不同于专利权中的新颖性、创造性，其根本原因在于布图设计的自身结构及其所要实现的功能。
受保护的布图设计应当具备独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。这是我国《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）第四条规定的独创性定义。该条规定明确了受保护的布图设计必须具备独创性，同时也意味着不具备独创性的布图设计专有权依法应当予以撤销 1。这一规定自2001年10月1日开始实施至今已有20年，在这20年的时间里，国家知识产权局（以下简称"国知局"）根据该规定做出了一系列的集成电路布图设计撤销案件审查决定。 2在已公开的10例布图设计撤销案件审查决定中，其中9例撤销意见提出人均提出案涉布图设计不具有独创性这一撤销理由。国知局的审查决定为本文研究独创性标准的适用情况提供了丰富的实践素材，检视这些案例，分析案例中符合或不符合独创性规定的具体理由，有助于总结适用该规定的经验，认识适用该规定的困难，反思适用中存在的问题。
一、布图设计独创性的现行法及法源（外国示范立法）的研究及特征界定
根据我国《集成电路布图设计保护条例》第四条的规定，布图设计的独创性包括两个要求：
- 第一，是"独"的要求，要求该布图设计"是创作者自己的智力劳动成果"，即劳动成果是劳动者从无到有独立创造出来的，或以他人现有的成果为基础进行的再创作，这同样属于劳动者的智力成果。
- 第二，是"创"的要求，要求"在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计"，这说明布图设计独创性"两不像"的属性： 3既不同于著作权的独创性，也不同于专利权中的新颖性、创造性。更具体地说的说，布图设计中的独创性大于著作权的独创性要求，相当于专利法中新颖性的要求，而没有达到专利法中创造性的要求。我国法律对受保护的布图设计在独创性方面的要求介于著作权法和专利法之间。
在2015年4月1日，国家知识产权局公布的《集成电路布图设计专有权撤销审查办法（草案）》第十一条明确规定了独创性的审查标准：" 条例第四条所称的独创性是指：（一）该项布图设计是创作者独立创作；（二）对于布图设计创作者和集成电路制造者来说，该项布图设计作为整体或者其部分与公认的常规设计对比，二者在图层数量、布局、连线、模块、元件等技术细节上具有实质性区别"。 4这一规定除了再次明确"独"的要求，首次以现行法的形式确立了"创"的标准，即案涉布图设计与现有布图设计之间应当具有实质性区别，特别是图层数量、布局、连线、模块、元件等技术细节方面的区别。
布图设计具有独创性包括三种情形，其一，布图设计整体具有独创性；其二，布图设计包括有一部分或多个部分具有独创性；其三，如果布图设计均是由常规设计组成，但其组合作为整体体现出独创性，该布图设计仍可受法律保护。 5
相关国际条约及各国的集成电路保护法中关于独创性方面的规定，一方面同样借鉴了著作权中关于独创性的概念，另一方面也同样要求受保护的布图设计不是公认的常规设计。
1989年世界知识产权组织通过《关于集成电路的知识产权条约》（IPIC）是最早对集成电路知识产权作出全面、系统规定的国际条约。 6在《与贸易有关的知识产权协定》（TRIPs）所直接援引的IPIC第3条第2款规定："独创性要求：（a）第1款所述的义务适用于具有独创性的布图设计（拓扑图），即该布图设计（拓扑图）是其创作者自己的智力成果，并且其创作时在布图设计（拓扑图）创作者和集成电路制造者中不是常规的设计；（b）由常规的多个元件和互联组合而成的布图设计（拓扑图），只有在其组合作为一个整体符合（a）项所述的条件时，才受到保护"。 7IPIC中独创性一词的原文与著作权法中独创性一词的原文相同，都是"Originality"，这说明IPIC在规定布图设计的独创性时，借鉴了著作权法中的内容。
美国《半导体芯片保护法》规定：" 下述掩膜作品无法受到保护：（ 1）非独创的；（ 2）由常规的、普通的或半导体行业常见的设计，以及其这些设计组合的变形不被认为具有独创性的"。 8在审议该《半导体芯片保护法》的美国国会报告中，也明确指出专利制度的发明创造新标准高于布图设计的独创性要求。国会报告还特别指出，独创性可以帮助法院确定布图设计中需要保护的和不需要保护的部分。 9
在日本相关立法中也特别体现了独创性的要求。日本《半导体集成电路布图设计法》第3条第1款规定："与申请注册相关的集成电路布图设计必须是具有创作性的作品"。日本相关学者认为满足独创性要求在于"进行了主观性创造设计"和"在允许权利注册时，未模仿已注册的其他集成电路布图设计"。 10
二、布图设计独创性的特征界定
《集成电路布图设计保护条例》第二条第（一）项规定："集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品"。《集成电路布图设计保护条例》第二条第（二）项规定：" 集成电路布图设计，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置"。
布图设计在外在形式上，表现为一系列的图形，当这些图形按照一定的规则被固化在硅片等半导体材料的不同层级中，便形成了三维立体结构，可以实现特定的电子功能 11。即布图设计本质上，是集成电路的电子元件在半导体材料中的几何图形排列和连接的图形设计，用以执行特定电子功能。
具体来说，布图设计是多层图纸叠加形成的三维配置，其表现形式类似于著作权客体的表现形式；而布图设计的主要用途是为了制造集成电路芯片，用以执行特定电子功能，又包含专利权客体所特有的功能性。因此，著作权和专利权的特性在布图设计上进行了融合。布图设计因其具有图形排列、图形设计、三维配置而根植于著作权，但布图设计的最终价值是为了实现特定功能，这也兼顾了专利权的部分权能。
在原有的知识产权体系中，著作权仅保护表现形式，不保护功能；而专利权仅保护满足新颖性、创造性、实用性的技术方案。 12布图设计因其要求功能性得不到著作权的保护，而大部分的布图设计无法满足创造性的要求得不到专利权的保护。因此，为了兼顾外在表现形式与内在实用功能，法律才特别规定了集成电路布图设计这一特殊的保护客体，且进一步规定布图设计的独创性标准位于著作权与专利权之间，即所谓布图设计独创性"两不像"属性。这对于如何发起行政撤销或者维持答复，都奠定了基本的权利属性认知和工作前提。
注 释：
1. 参见《集成电路布图设计保护条例实施细则》第二十九条第一款。
2. 参见"审查决定检索"，http://reexam-app.cnipa.gov.cn/reexam_out2020New/searchIndexSC.jsp。
3. 参见吴威：《集成电路布图设计侵权及法律保护研究》，南昌大学硕士论文，2018年。
4. 参见"关于就《集成电路布图设计专有权撤销审查办法(草案)》公开征求意见的通知"，https://www.cnipa.gov.cn/art/2015/4/1/art_78_110929.html。
5. 参见祝建军：《集成电路布图设计登记备案制度存在的问题与修改建议》，载《知识产权》2019年第9期，第38页。
6. 参见傅启国、曹坤、王梦婷、宋海瑞、周盼：《集成电路布图设计的法律保护及其立法完善》，载《中国发明与专利》2021年第6期，第68页。
7. See WTO: Agreement on Trade-Related Aspects of Intellectual Property Rights (TRIPs), Article 35.
8. See 17 U.S.C. 902(b).
9. See HOUSE REPORT, at 19, 1984 U.S.C. CONG.& AD. NEWS at 5768; 转引自龚雯怡：《集成电路布图设计的侵权判断标准研究》，华东政法大学硕士论文，2015年。
10. 参见[日]田村善之著，周超、李雨峰、李希同译：《日本知识产权法》，知识产权出版社2014年版，第384页。
11. 参见郭禾：《中国集成电路布图设计权保护评述》，载《知识产权》2005年第15卷，第11页。
12. 参见吴汉东著：《知识产权法》，法律出版社2021年版，第694页。
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